-卡脖子“带来哪些投资机会？”光刻胶国产替代有哪些投资理财市场概念股？

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　　2023年1月，美国与荷兰和日本达成协议，约束向我国出口一些先进的芯片制作设备;

　　3月8日，业界传出音讯称，日本某光刻胶大厂现已履行美国“实体清单”的约束要求，对我国大陆某存储晶圆厂断供了KrF光刻胶;

　　3月9日，受风闻影响，A股光刻胶板块继续保持强势。其间上海新阳表明，公司光刻胶事务现在全体没有构成太多规模化的出售；南大光电表明，公司光刻胶已经过了2家公司验证，其间ArF光刻胶验证一般需求18个月乃至更长的时刻；容大感光接连两个交易日“20CM”涨停；

　　3月13日，国产半导体资料供货商晶瑞电材表明，公司KrF高端光刻胶部分种类已量产!

　　光刻胶界说

　　光刻胶(photoresist)，又被称为光阻或光阻剂，是指经过紫外光、深紫外光、电子束、离子束、X射线等光照或辐射，溶解度会发生改变的耐蚀刻薄膜资料，是光刻工艺中的要害资料。

　　众所周知，光刻胶是半导体芯片制作进程中所有必要的要害资料。依照曝光波长分类;光刻胶可分为紫外光刻胶(300~450nm)、深紫外光刻胶(160~280nm)、极紫外光刻胶(EUV，13.5nm)、电子束光刻胶、离子束光刻胶、X射线光刻胶等。

　　日本称雄，寡头独占

　　在半导体光刻胶细分范畴，日本厂商在高端商场具有十分强的话语权。

　　据TOK和Fujifilm数据显现，2021年东京应化、JSR、住友化学、富士胶片别离占有27%、13%、12%、8%的商场比例，陶氏化学占有17%的商场比例，韩国东进占有11%的商场比例。

　　①g/i线光刻胶商场：日本的东京应化、JSR、住友化学和富士胶片别离占有26%、15%、15%、8%的比例，在全球商场占有64%比例。

　　②KrF光刻胶商场：日本龙头企业东京应化、信越化学和JSR在全球KrF光刻胶细分商场别离占有34%、22%和18%比例，算计占比到达74%。

　　③ArF光刻胶商场：日本龙头企业JSR、信越化学、东京应化和住友化学，别离占有全球ArF光刻胶细分商场25%、23%、20%和15%商场比例，算计商场比例到达83%。

　　④EUV光刻胶商场：日本JSR、东京应化、信越化学成为EUV光刻胶商场可完成量产的厂商。

　　光刻胶在日、美、韩等世界大厂占比比例超越85%，针对各大厂在光刻胶范畴的开展概略收拾如下：

　　JSR：产品从g线到EUV多种品类，公司在EUV光刻胶范畴主攻10nm及以下制程工艺。现在JSR正在研制和出售适用于5nm及以下制程的EUV光刻胶，以保持和扩展公司在先进光刻资料的商场比例。

　　东京应化：产品掩盖橡胶型负性光刻胶、g线光刻胶、i线光刻胶、KrF光刻胶、ArF光刻胶、EUV光刻胶、电子光束光刻胶等。其间KrF光刻胶占比32%;ArF光刻胶占比22%，g/i线光刻胶占比13%;EUV光刻胶占比达11%。

　　杜邦：全球抢先的半导体资料供货商，已推出很多荣获认可、多种波长的光刻产品，其间包括193nm(ArF)、248nm(KrF)和i/g-line光刻胶，以及碳膜涂层(SOC)、抗反射涂层(BARV)、先进外表涂层和光刻胶配套试剂。

　　信越化学：主营产品有I/g线光刻胶、Krf光刻胶、ArF(干式和湿式)、EUV光刻胶。2020年10月，将半导体厂重要资料光刻胶的产能调高20%;信越化学台湾云林厂将在2021年正式量产，进步50%针对台湾客户的产能;信越化学直江津工厂的新设备在2022年2月开端运作，将进步20%的产能。

　　住友化学：首要包括i线、KrF、ArF、EUV光刻胶等。2021年8月31日，住友化学宣告，决议扩展半导体光刻胶的产能。新增ArF(浸入式)和EUV(极点紫外线)光刻胶出产线将于2023上半年开端运营，大阪工厂将于2024上半年投产。

　　富士胶片：产品掩盖负胶、i线、KrF、ArF、电子束胶等。《日刊工业新闻》泄漏，富士胶片已正式发动EUV光刻胶事务，方针在2024年之前取得全球10%市占率。

　　Tok:是全球最大的G线/I线、KrF光刻胶供货商。在KrF光刻胶和ArF光刻胶产品中完成的出售额较大。

　　陶氏化学：能够批量出产市面上全线光刻胶产品。

　　东进世美肯：韩国内首家开发PVC以及橡胶发泡剂，2021年5月25日，在京畿道华城巴兰的工厂举行了新光刻胶制作大楼的竣工典礼和产品交给典礼，并方案在这里出产EUV光刻胶。

　　国产化进程加快，光刻胶开展快速提高

　　现在，我国本乡厂商首要以技能壁垒相对较低的PCB光刻胶为主，高端光刻胶是集成电路28nm、14nm乃至10nm以下制程的要害，而大部分都被国外大厂独占，在中高端光刻胶商场仍是相对较弱。详细来说：

　　产能方面，国内企业的产品，仅g/i线光刻胶完成批量使用，KrF仅少量研制进展抢先企业完成小批量使用，高端首要依靠进口，国内光刻胶职业与世界先进水平仍是有必定的距离。

　　低端g/i线光刻胶自给率约为20%，KrF光刻胶自给率缺乏5%;

　　高端ArF光刻胶则首要依靠于进口，是国内半导体的卡脖子技能之一;

　　EUV光刻胶，因为美国约束，国内无法进口EUV光刻机，国产EUV光刻胶更无从谈起。

　　专利方面，日美企业在光刻胶范畴的专利堆集优势巨大。据才智芽专利数据显现，光刻胶第一大技能来历为日本，专利请求量占全球光刻胶专利总请求量的46%;美国则以25%的请求量位列第二;我国则以7%的请求量排在韩国之后。从趋势上看，2020年我国光刻胶专利请求量为1.29万项，日本光刻胶专利请求量下降至8982项。

　　近年来，跟着光刻胶的需求攀升，光刻胶呈现求过于供的局势，部分中小晶圆厂乃至呈现了“断供”现象。跟着中美关系冲突继续，部分国产厂家已开端加快布局。

　　g/i线光刻胶方面，首要有晶瑞电材(姑苏瑞红)、彤程新材(北京科华)。

　　KrF光刻胶方面，国内的彤程新材(北京科华)、上海新阳、晶瑞电材(姑苏瑞红)、徐州博康(华懋科技)等都有布局，但完成量产供货的却不多。

　　ArF光刻胶方面，国内的南大光电、晶瑞电材(姑苏瑞红)、彤程新材(北京科华)、上海新阳、徐州博康等也都有布局，但没有完成大批量量产供货。

　　EUV光刻胶，北京科华已经过02专项检验。

　　详细厂家及部分国产企业近三年经营收入如下：

　　总结

　　跟着国外大厂断供形成国内光刻胶供需缺少继续严重，以及半导体供应链安全问题日益严重，光刻胶的国产代替的窗口逐渐翻开。国产光刻胶有望从0到1完成技能打破，逐渐导入供应链，国内大厂有望捉住国产代替窗口进入上升的拐点。

　　未来，国内光刻胶业界则应充分利用国产化这一优势，砥砺加快高端光刻胶的技能攻坚和工业晋级，从而推进国内前沿半导体生态的开展建造

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